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拉曼光谱用于临床医疗、癌症的检测与诊断
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拉曼光谱用于临床医疗、癌症的检测与诊断

拉曼光谱的应用也遍及诸如材料分析、宝石鉴定、安检、爆炸物分析,生化、药物、食品在线质量控制等。尤其是其快速、近乎无损的检测方式,使得近年来在生物医学、医疗诊断上的应用与研究得到越来越多学者的重视比如应用于癌病变组织检测与诊断、血液成分分析、动脉硬化拉曼光谱检测等。

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LED企业该如何跨入医疗照明新蓝海?
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LED企业该如何跨入医疗照明新蓝海?

作为一种特殊的照明方式,医疗照明具有一定的特殊要求,与传统医疗照明比拟,LED灯具有定向、低光谱伤害等特点成为其进入医疗照明领域的上风。因为医疗照明准入门槛高、市场规模小、但市场价格昂贵,因此其市场的实际市值大。

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如何提高LED舞台照明灯具的光色性能
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如何提高LED舞台照明灯具的光色性能

传统的舞台灯具主要使用的是卤钨灯、氙灯等。以卤钨灯为例,其作为舞台照明光源的特点在于热辐射光源的光谱连续性,显色指数范围为95~100,接近理想光源。

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在柔性衬底上制备的非晶硅薄膜力学性能研究
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在柔性衬底上制备的非晶硅薄膜力学性能研究

以聚酰亚胺膜作为柔性衬底材料 , 用等离子体增强化学气相沉积 (PECVD) 技术制备氢化非晶硅薄膜 . 喇曼(Raman) 光谱分析表明适当温度下的退火工艺使氢化非晶硅薄膜具有均匀的微硅晶体结构和良好的表面质量 . 在扫描电子显微镜下进行的力学性能实验研究表明 , 由于非晶硅薄膜和聚酰亚胺膜之间较强的相互作用 , 使非晶硅薄膜具有优异的柔韧力学性能。

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8种常见的灯具检测技术
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8种常见的灯具检测技术

LED光源与传统光源在物理尺寸及光通量、光谱、光强的空间分布等方面均存在很大差异,LED检测不能照搬传统光源的检测标准及方法。小西下面给大家介绍介绍常见LED灯具的检测技术。

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滨松硅光电倍增管模块(MPPC)C13365
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滨松硅光电倍增管模块(MPPC)C13365

MPPC,及硅光电倍增管是由许多个在盖革模式下工作的APD组成,因此,根据它的工作原理,也可被称为MPPC(multi pixel photon counter)。虽然从本质上讲,MPPC一个光半导体器件,但是它有着优良的光子计数能力,可用于检测在光子计数水平下极弱光的应用场合。可广泛应用于医疗、环境、工业、学术等方面。

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滨松硅光电倍增管(MPPC)S13360系列
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滨松硅光电倍增管(MPPC)S13360系列

这种新型的探测器具有可在低电压下工作的优点,并有着高增益、高光子探测效率、快速响应、优良的时间分辨率和宽光谱响应范围等特点。除此之外,也有着抗磁场干扰性和耐机械冲击性,这都是固体器件所独有的优势。

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紫外LED在光通信领域的应用分析
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紫外LED在光通信领域的应用分析

目前紫外光源已广泛应用于医疗杀菌、荧光光谱分析、生物分析/检测、水处理等领域,其中紫外光源的杀菌特性早在17世纪初期就被发现,紫外荧光管技术在18世纪50年代开始应用,这些技术采用的紫外光源均是气体放电灯(如低压汞灯)。

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用荧光光谱分析法进行RoHS检测
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用荧光光谱分析法进行RoHS检测

2006年7月1日起欧盟成员国强制实施RoHS,电子信息产品中铅、汞等6种有害物质被限制使用。

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手持式光谱仪在考古发掘及文物保护中的应用
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手持式光谱仪在考古发掘及文物保护中的应用

手持式光谱仪用于考古发掘,文物及艺术品保护等领域已有五十多年的历史。但直到最近功能强大的手持式设备的开发,才使得这项非破坏性检测技术在该领域得以充分发展。

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【知识】8种常见的灯具检测技术
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【知识】8种常见的灯具检测技术

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In插入层对硅衬底外延InN晶体质量和光学特性的影响
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In插入层对硅衬底外延InN晶体质量和光学特性的影响

在si ( 111) 衬底上分别预沉积0,0.1,o.5,1 nm厚度的In插入层后,采用等离子辅助分子束外延法制备了纤锌矿结构的I nN材料,结合x射线衍射(XRD) 、扫描电子显微镜(SEM) 、吸收谱及光致发光谱研究了不同厚度的I n插入层对外延I nN晶体质量和光学特性的影响。XRD和SEM的测试结果表明,在s i 衬底上预沉积O.5 nm厚的I n插入层有利于改善外延I

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CCD信号采集系统的USB接口设计
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CCD信号采集系统的USB接口设计

CCD器件具有诸多优点:灵敏度高、光谱响应宽、动态范围大、空间自扫描等,使得近30年来,CCD器件及其应用技术的研究取得了惊人的进展,特别是在图像传感和非接触测量领域的发展更为迅速

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农业照明光源的发展
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农业照明光源的发展

照明对现代农业的发展有至关重要的作用,随着生物学技术和光源技术的不断进步,农业照明光源的进步也十分迅猛。讨论农业照明的基本要求以及光源光谱农业的不同作用,基于这些要求探讨目前农业照明中使用各种光源的特点和应用,最后展望未来农业照明光源的发展趋势。

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I n插入层对硅衬底外延I nN晶体质量和光学特性的影响
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I n插入层对硅衬底外延I nN晶体质量和光学特性的影响

在si(111)衬底上分别预沉积0,0.1,0.5,1nm厚度的In插入层后,采用等离子辅助分子束外延法制备了纤锌矿结构的InN材料,结合x射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、吸收谱及光致发光谱研究了不同厚度的In插入层对外延InN晶体质量和光学特性的影响。XRD和SEM的测试结果表明,在si衬底上预沉积O.5nm厚的In插入层有利于改善外延InN材料的形貌,提高材料的晶体质量。吸收谱和

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